Единый справочный номер:
+375 17 33-777-99
Звонки принимаются в рабочее время: пн. - пт.: 8:30-17:15
Обеденный перерыв : 12:00-12:45
Факс:
E-mail:

Новые виды измерений в спектральной эллипсометрии

≪ Вернуться к списку
 

БелГИМ предоставляет предприятиям и организациям услуги по новым видам измерений в области спектральной эллипсометрии с помощью эталонного эллипсометра Horiba UVISEL Plus. В комплекте с эллипсометром имеются меры толщины тонких пленок производства национального метрологического института США NIST с сертификатами калибровок. Таким образом обеспечивается прослеживаемость измерений тонких пленок к международным единицам SI.

Спектральная эллипсометрия позволяет определить ряд свойств тонких пленок, включая:

  • толщину пленки;
  • толщину границы раздела;
  • оптические постоянные (n, k);
  • состав пленки;
  • оптическую ширину запрещенной зоны;
  • кристалличность;
  • градацию;
  • анизотропию;
  • однородность по глубине и площади.

С помощью эллипсометрии можно измерять толщину пленок, в том числе и многослойных, от нескольких долей нанометра до десятков микрометров. Эллипсометрия позволяет определять несколько свойств пленки одновременно, быстро и без пробоподготовки. Она наиболее точна для тонких пленок толщиной менее 10 нм и покрывает спектральный диапазон от 190 до 2 100 нм.

Возможность эллипсометрии измерять толщину тонких пленок (оксид кремния на кремнии) с точностью до сотых долей нанометра очень важна для микроэлектронной промышленности.

Измерения в области спектральной эллипсометрии, проводимые с применением эталонного эллипсометра Horiba UVISEL Plus, дают возможность предприятиям проводить калибровку своих эталонных мер толщины тонких пленок для калибровки рабочих эллипсометров.

 

Основные характеристики спектрального эллипсометра Horiba UVISEL Plus

Наименование характеристики

Значение характеристики

  Диапазон измерений толщины пленок

 от 0,1 нм до 40 мкм (в зависимости от материала пленки)

  Пределы допускаемой абсолютной погрешности
 (до 100 нм), нм

 ±1

  Пределы допускаемой относительной погрешности
 (свыше 100 нм), %

 ±1

 

Опубликовано:22.07.2020

 
≪ Вернуться к списку